Bando: Fornitura, installazione, messa in funzione, collaudo e training del personale di un Sistema di attacco al plasma a Ioni Reattivi CCP (CCP-RIE) e Un Sistema di attacco al plasma a Ioni Reattivi ICP (ICP-RIE)
Lotto: Sistema di attacco al plasma a Ioni Reattivi CCP (CCP-RIE) e Un Sistema di attacco al plasma a Ioni Reattivi ICP (ICP-RIE)
Forma di partecipazione: Singola
Data di aggiudicazione: 26-10-2023